HFS(氫正向散射光譜)

HFS（氫正向散射光譜）是一種用於定量薄膜中氫濃度的離子散射分析技術。在分析過程中，He2+離子以掠射角角度撞擊樣品表面，將樣品的氫原子碰撞出後，以固態偵測器進行分析。

由於薄膜物理或者電氣屬性中氫元素的潛在影響，因此在薄膜中測定氫元素的組成和分布就變得很關鍵。其他的技術，例如AES、EDS以及XPS，都無法偵測氫元素；而SIMS可以測量氫元素，但要定量氫元素是非常困難。這使得HFS在薄膜分析中成為了一項非常獨特有用的技術。

很少有實驗室能像EAG這樣在提供HFS技術方面擁有深度和廣泛的經驗。EAG的經驗使其具有快速分析時間、準確數據以及個人的服務，確保客戶能夠理解所得到的分析結果。