Ion Channeling(離子溝道)

Ion Channeling（離子溝道）是利用單晶的材料特性來進行薄膜分析的離子散射技術。當高能He2+ 離子束和單晶的晶軸達到適當地一致時，背向散射訊號就會急劇下降。

這種效應可以用於測定樣品的晶體質量與深度的相對關係。這些應用包括晶體質量在不同處理（離子植入、退火和晶體成長）後的分析，或者確定非晶層的厚度。

EAG常規分析的範圍是各式各樣的半導體材料，包括非常薄的膜，離子溝道是非常獨特的分析服務，EAG具有獨一無二的經驗，能夠實現快速的工作處理時間、準確數據以及個人服務。