SEM(掃描式電子顯微鏡)

SEM（掃描式電子顯微鏡）為樣品表面和近表面提供高解析度和長景深的圖像。由於能夠快速提供非常詳細的圖像，SEM目前是最廣泛使用的分析工具之一。與EDS（能量色散X-射線光譜）的結合測量，讓SEM可以提供幾乎整個週期表的元素鑑定。

當光學顯微鏡不能提供足夠的圖像解析度或是放大倍率時，EAG就會使用SEM來解決這個問題。SEM的應用範圍包括故障分析、維度分析、製程特性、逆向工程和粒子鑑定。EAG的專業知識和豐富經驗，對於我們所服務的行業和客戶來說是非常寶貴的。一對一的個人服務，可以確保客戶對分析結果及其意義有良好的理解。在分析過程中，客戶會經常在場，進而實現資料、圖像和資訊的即時分享。

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產業應用

航太工業
汽車
生物醫學/生物技術
化合物半導體
資料存儲
國防
顯示器
電子領域
工業產品
照明設備
製藥
光學領域
聚合物
半導體
光電太陽能
電信

技術限制

樣品通常需要有真空相容性
可能需要蝕刻的對比度
SEM可能會破壞樣品表面，影響後續分析
因為尺寸限制可能會要求切割樣品
最終解析度與樣品及其製備有很大的相關性

優點

快速、高解析度影像
快速識別存在的元素
良好景深
支持許多其他工具的多功能平臺

分析規格

偵測訊號：二次電子、背向散射電子和X-射線，吸收電流、光（陰極發光）和感應電流（EBIC）

偵測元素：B-U（EDS）

偵測限制條件：0.1-1at%

深度解析度：0.5-3µm（EDS）

影像/mapping：是

橫向解析度/偵測尺寸：15-45Å

應用範圍

高解析度圖像
元素微量分析和顆粒特性