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AFM/SPM(原子力顯微鏡)
AFM(原子力顯微鏡),提供原子或近原子解析度的表面形貌圖像,能夠定量樣品的表面粗糙度到"Å"等級。除了提供表面圖像之外,AFM也可以提供形態的定量測量,如高度差和其他尺寸。另外,磁力顯微鏡(MFM)是AFM一種應用,能夠繪製樣品的磁域圖。
AFM分析方法應用的案例包括:
- 評估晶片處理前後的差異(SiO2, GaAs, SiGe等)
- 確定生物醫學設備的處理效果(例如電漿處理),如隱形眼鏡、導管和塗層支架
- 檢查表面粗糙度對附著力的影響
- 評估圖案晶圓的溝槽形狀與清潔度
- 檢查形態是否是表面陰霾的來源
產業應用
技術限制
- 掃描範圍限制:橫向100µm (x,y),垂直5µm(z)
- 對極其粗糙和形狀怪異的樣品在分析上有困難
- 探針好壞可能會造成誤差
優點
- 可定量表面粗糙度
- 全晶圓分析(最大300mm)
- 高空間解析度
- 導體或絕緣體皆可成像
分析規格
偵測訊號: 樣品表面形態
垂直解析度:0.1Å
影像/mapping:是
橫向解析度/Probe 大小: 15-50Å
應用範圍
- 提供三維表面形態影像,包括表面粗糙度、粒徑大小、高度差和間距
- 其他樣品特性的成像,包括磁場、電容、摩擦力和相位