高級光譜

WE KNOW HOW™

X射線光電子能譜（XPS光譜） 也稱為化學分析電子能譜 (ESCA). X射線光電子能譜 用於確定定量的原子組成和化學。它是一個表面分析採樣體積從表面延伸到大約 50-100 Å 的深度的技術。 XPS 光譜也可用於濺射深度分析。這對於通過將矩陣級元素量化為深度的函數來表徵薄膜很有用。

XPS光譜學是一種元素分析技術。這在提供被檢測元素的化學狀態信息方面也很獨特。一個很好的用途是區分硫酸的硫酸鹽形式和硫化物形式。 該過程通過向樣品照射單色X射線。這導致光電子的發射，其能量是採樣空間內元素的特徵。

XPS光譜儀是我們的一部分智能圖表系列. XPS 光譜可以檢測和量化除 H 和 He 之外的所有元素，並提供化學狀態信息，使其成為一種強大的調查分析技術。

X 射線穿透樣品幾微米深並迫使電子離開樣品。因此，只有頂部 100 埃的電子才有足夠的能量到達 XPS 探測器。

首先，XPS 光譜學通常從以最高靈敏度查看全能量範圍掃描的調查開始。因此，我們可以識別和量化表面元素。其次，我們通常使用高分辨率 XPS 分析來確定鍵合狀態，其中我們以更高的能量分辨率使用窄掃描。這可以從峰位置和峰形確定化學鍵合狀態。最後，為了確定薄膜成分，深度剖面分析很有用，因為它可以查看原子成分。

EAG 在各種應用中使用 X 射線光電子能譜來幫助各行各業的客戶。例如，通過研發、工藝開發/改進和故障分析.

XPS光譜項目範例

XPS分析的示例包括：

識別污漬和變色
表徵清潔過程
分析粉末和碎片的成分
確定污染源
在處理之前和之後檢查聚合物功能以識別和量化表面變化
獲得基質水平成分和污染物的薄膜疊層（導電和非導電）的深度剖面（低至％％水平）
評估樣品之間氧化物厚度的差異
測量硬盤上的潤滑劑厚度

XPS光譜總結

應用範圍

首先，對有機和無機材料、污漬或殘留物進行表面分析
其次，從表面確定成分和化學狀態信息
三、薄膜成分的深度剖析
此外，薄膜氧化物厚度測量（SiO₂，Al₂O₃)

XPS的優勢

表面上的化學狀態識別
識別除H和He之外的所有元素
定量分析，包括樣品之間的化學狀態差異
適用於多種材料，包括絕緣樣品（包括紙、塑料和玻璃）
基質水平濃度的深度剖析
氧化物厚度測量

XPS局限性

首先，檢測限通常約為 0.1 at%
其次，最小分析面積〜10 µm
另外，有限的特定有機信息
最後，樣本與特高壓環境的兼容性

XPS 光譜技術規格

檢測到的信號：來自近表面原子的光電子
檢測到的元素：Li-U化學鍵信息
檢測限：0.1–1 at% 亞單層
深度分辨率：20–200 Å（剖面模式）； 10–100 Å（表面分析）
成像/映射：是
橫向分辨率/探針尺寸：10 µm – 2 mm

首先，XPS 光譜學通常從以最高靈敏度查看全能量範圍掃描的調查開始。因此，我們可以識別和量化表面元素。其次，我們通常使用高分辨率 XPS 分析來確定鍵合狀態，其中我們以更高的能量分辨率使用窄掃描。這可以從峰位置和峰形確定化學鍵合狀態。最後，為了確定薄膜成分，深度剖面分析很有用，因為它可以查看原子成分。

EAG 在各種應用中使用 X 射線光電子能譜來幫助各行各業的客戶。例如，通過研發、工藝開發/改進和故障分析.